王钧石
,
柳襄怀
,
黄楠
,
孙宏
,
王良辉
材料开发与应用
doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2003.05.005
本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积的技术(PIII-IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析.试验结果表明,沉积膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3,TiN膜具有高达Hv3200的高硬度和极其优良的摩擦性能.
关键词:
等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积(PIII-IBAD)
,
TiN膜
,
显微硬度
,
摩擦性能
