罗坚
,
陈东升
,
李梅
,
路庆华
材料导报
介绍了一种新型的紫外光刻体系,它由包含低分子量PVP(K30)作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP(K90)/DAS组成.通过紫外光引发DAS分解及PVP交联、乙醇显影和高温处理在玻璃基片的表面选择性固定Pd颗粒,然后通过Pd颗粒引发化学镀,得到铜线路图形.采用扫描电镜(SEM)观察并讨论了显影时间及其对图形分辨率的影响.
关键词:
化学镀
,
聚乙烯基吡咯烷酮
,
钯
,
紫外光刻
,
微图形
苏良碧
,
杨卫桥
,
董永军
,
周圣明
,
周国清
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.05.015
随着深紫外光刻技术的发展,透光范围宽、透过率高的CaF2晶体成了人们关注的焦点,其尺寸和质量得到了不断的提高.结合CaF2的基本性质,综述了CaF2晶体的主要生长方法及存在的问题.从原料的纯化处理到晶体的光学加工,归纳总结了提高紫外级CaF2晶体的尺寸、质量和产率的有效措施.
关键词:
氟化钙(CaF2)晶体
,
紫外光刻
,
晶体生长
