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静电纺丝制备SU-8光刻胶纳米纤维及图案阵列

刘俊 , 常梦洁 , 杜慧玲

高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2016.04.023

利用静电纺丝和紫外光刻技术直接制备了不同结构的SU-8光刻胶纳米纤维薄膜及图案阵列.通过光学显微镜和扫描电子显微镜表征了纳米纤维的形貌、尺寸及结构.结果表明,通过改变SU-8光刻胶的黏度可形成不同直径和形貌的纤维结构,其中用SU-8 3010和SU-8 3050光刻胶制备的纳米纤维具有最优的形貌,其平均直径分别为470 nm和610nm.利用带有长方形缺口的铝箔和同轴电纺的方法分别制备了平行趋向和空心结构的纳米纤维.通过紫外光刻过程,可将SU-8纳米纤维加工成点阵、条状等不同形貌的图案阵列或结构,有望用作细胞培养研究的功能基底材料.

关键词: 静电纺丝 , 纳米纤维 , SU-8光刻胶 , 纤维图案

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