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戴雯琦 , 居建华 , 许俊芬 , 夏义本
材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.023
通过偏压微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD) 成功地在Si(100)上生长出具有[100]织构的金刚石薄膜.阐述了实验过程,讨论了偏压对 [100]织构金刚石薄膜成核与生长条件的影响,偏压有助于成核密度的提高和有利于[100 ]织构生长.采用SEM、Raman光谱等对所得样品进行了表征.
关键词: 金刚石薄膜 , MPCVD , 偏压 , 织构生长
