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耐熔微掩膜法制备高温超导Josephson结

范世雄 , 许伟伟 , 刘庆国 , 吉争鸣 , 杨森祖 , 吴培亨

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2003.03.006

在超导Josephson结的制备过程中,传统的成结方式为对超导薄膜进行化学刻蚀或离子刻蚀,以形成特定图形的结.而刻蚀这一步常常会给结的性能带来负面影响,从而直接导致超导器件性能的下降.本文介绍了一种利用耐融微掩模制备高温超导Josephson结的方法.本方法的特点是:一次成结无需后期刻蚀,利用此方法可以避免刻蚀工艺对超导器件性能的影响,制备高质量的高温超导Josephson结. 本文给出利用此方法制备高温超导YBCO/YSZ双晶结的有关工艺,以及初步的实验结果.

关键词: Josephson结 , 耐熔微掩模 , 双晶结

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