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WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析

方国家 , 刘祖黎 , 姚凯伦

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.023

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300°C以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜.

关键词: 三氧化钨薄膜 , 纳米晶 , 脉冲准分子激光沉积(PLD) , 结构分析 , Si(111)衬底