高分子材料科学与工程
专利名称：纳米级复合材料的制备方法专利申请号：CN200580042923．2公开号：CN101080445申请日：2005．10．25公开日：2007．11．28申请人：美国3M创新有限公司将可脱保护的聚合物、活化剂和层状硅酸盐混合，并使所述的可脱保护的聚合物至少部分地脱保护，从而形成复合材料。该复合材料与聚合物树脂混合，从而形成纳米级复合材料。
关键词:
专利申请号
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纳米级复合材料
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高分子
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聚合物树脂
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层状硅酸盐
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脱保护
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制备方法
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专利名称
王军
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胡小丽
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文伟河
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杨雷雷
,
朱玉亮
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2012.00371
以甘草次酸(1)为原料,将其11位羰基还原、30位羧基酯化得11-脱氧甘草次酸-30-乙酯(3).再以四氢呋喃为溶剂,N,N′-二环己基碳二亚胺( DCC)/4-二甲基氨基吡啶(DMAP)为偶合剂,选用Fmoc保护氨基酸对11-脱氧甘草次酸-30-乙酯的3位羟基进行酯化,得到11-脱氧甘草次酸-30-乙酯-3位氨基酸酯衍生物 (4a～4d).化合物4a～4d在V(CHCI2)∶V(Et2 NH)=1∶1溶液中脱去Fmoc保护基得到最终产物(5a ～ 5d),产率80％～87％.化合物5a～5d用1H NMR、EI-MS进行了表征.活性实验结果表明,化合物5a～5d对在高浓度二甲基甲酰胺下生长的枯草芽孢杆菌、大肠杆菌和酵母菌具有保护作用.
关键词:
甘草次酸
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Fmoc保护氨基酸
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还原
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酯化
,
脱保护
