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高温垂直Bridgman法生长Zn1-xMgxTe晶体

刘国和 , 李焕勇 , 张海洋 , 王小军 , 靳英坤

人工晶体学报

采用高温垂直Bridgman法,以ZnTe(5N)、Mg(5N)和Te(7N)为初始原料,在高温下成功生长出了尺寸为φ15mm×50 mm的Zn1-xMgxTe晶体.分别采用X射线衍射、紫外可见分光光度计和红外光谱仪研究了晶体的结构及光学性质,通过PL谱和化学腐蚀的方法分析了晶体的结晶质量.结果表明:所生长的晶体具有立方相结构,晶格常数为0.61585 nm,略大于ZnTe晶格常数,晶锭中质量最好部分的晶片红外和紫外透过率接近60%,室温下其禁带宽度约为2.37 eV.77 K温度下,PL谱中存在A和B两个主要的发光带,位错腐蚀坑密度在105 cm-2数量级.

关键词: 高温垂直Bridgman法 , Zn1-xMgxTe晶体 , 透过率 , 腐蚀坑密度

KOH热湿腐蚀法准确估算GaN的位错密度

高志远 , 郝跃 , 张进城 , 张金凤 , 倪金玉

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.04.003

实验目的在于解决GaN外延层中六方形腐蚀坑起源问题存在的分歧,并利用腐蚀法准确地估计GaN的位错密度.大量对熔融KOH腐蚀GaN过程中表面形貌的演化以及温度和时间对腐蚀结果影响的实验结果表明,位错类型与腐蚀坑三维形状相对应,而与腐蚀坑大小无关,极性是GaN不同种类位错的腐蚀坑具有不同形状的决定性因素.使所有缺陷都显示出来所需的腐蚀温度和时间呈反比关系.腐蚀法估算GaN位错密度的准确性取决于优化的腐蚀条件和合理的微观观测方法.

关键词: 位错密度 , GaN , 腐蚀坑密度 , 腐蚀机制

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