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温度对绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET电学特性的影响

于杰 , 王茺 , 杨洲 , 胡伟达 , 杨宇

人工晶体学报

本文利用二维数值模拟方法,模拟分析了不同工作温度时绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET的输出特性和亚阈值特性.结果表明:随着器件工作温度的不断提高,漏源饱和电流单调减小;亚阈值电流略有增大;亚阈值摆幅的改变量ΔS与温度基本上成线性关系;阈值电压不断地向正方向偏移.通过考虑自热效应的影响,不同Ge组分器件的漏源饱和电流均有不同程度的降低,且随着Ge组分的增加,漏源饱和电流的降低幅度增大.

关键词: 温度 , 应变SiGe沟道 , p-MOSFET , 自热效应

考虑自热效应的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管建模与仿真

姜霞 , 赵正平 , 张志国 , 骆新江 , 杨瑞霞 , 冯志红

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.04.014

基于电荷控制模型,分析了极化,载流子迁移率,饱和电子漂移速度,导带断续,掺杂浓度,沟道温度等与自然效应的关系,并考虑了寄生电阻对自热效应的影响,建立了模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流Ⅰ-Ⅴ特性的解析模型.通过与试验值的对比,该模型具有较高的精度,并且计算过程简单,可以用来指导器件结构和电路的设计.

关键词: AlGaN/GaN , 高电子迁移率晶体管 , 解析模型 , 自热效应 , 直流Ⅰ-Ⅴ特性

多指PHEMT器件热点和热阻数值研究

李敏 , 吴晶

工程热物理学报

随着大功率半导体器件的发展,其局部热流密度急剧增加.为防止器件功能失效,需要可靠的建模技术来研究器件的热学行为,进而指导其冷却设计.本文采用非等温能量平衡模型研究了自热效应对栅长为500 nm的多指GaAs赝配高电子迁移率固态微波功率器件(PHEMT)的热学特性的影响.基于泊松方程、连续性方程、输运方程和晶格热方程,数值求解得到了器件的热点位置和温度分布,并通过实验进行了验证.最后,应用(火积)理论,进一步分析了(火积)耗散热阻在评价器件热学性能方面的适用性.

关键词: PHEMT , 自热效应 , NEB模型 , 热点 , (火积)耗散热阻

非晶硅薄膜晶体管的热阻模型

刘远 , 姚若河 , 李斌

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20112601.0028

基于能量方程、热流方程和边界条件,推导出了非晶硅薄膜晶体管的沟道热阻模型.采用该模型可准确预估器件有源层内的平均温度.在沟道热阻模型的基础上,考虑器件问场氧化层和金属瓦联线的影响,建立了非晶硅薄膜晶体管的二维热阻模型.采用该模型可描述器件有源层内温度的横向分布,并快速预估沟道内的最高结温.最后,将模型预测结果与器件模拟仿真结果进行了对比,两者拟合良好.

关键词: 非晶硅薄膜晶体管 , 热阻 , 自热效应 , 温度分布

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