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一种改进的硅片薄层电阻及其均匀性表征方法

刘新福 , 刘东升 , 孙以材

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.042

概述了微区电阻测试方法及其均匀性表征方法的应用,利用自主研制的斜置式方形四探针微区薄层电阻测试仪,对P型硅芯片进行了无图形Rymaszewski法测试,在3寸芯片上测试了598个366 μm×366 μm 方形微区的薄层电阻,并用等值线图表示了其分布,得到了薄层电阻的不均匀度及平均值,这种微区薄层电阻表示方法适用于评价材料质量及改进制造工艺.

关键词: Rymaszewski法 , 等值线图 , 薄层电阻

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