张红鹰
,
吴师岗
,
杜健
硅酸盐通报
用电子束蒸发方法沉积HfO2薄膜,用X射线衍射和透射光谱测定HfO2薄膜的结构特征和光学性能,并测定薄膜的弱吸收和损伤阈值.结果表明:HfO2薄膜在沉积温度为350℃时,达到了较好的结晶程度.在可见光和近红外光区具有很高的透过率;HfO2薄膜的损伤阈值比较高,达到10.5 J/cm2.
关键词:
HfO2薄膜
,
X射线衍射
,
透射光谱
,
薄膜结构
,
光学性能
石永敬
,
龙思远
,
王杰
,
潘复生
材料导报
直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中.主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模型.直流非平衡磁控溅射是直流磁控溅射技术中的重要里程碑,使磁控溅射技术直接过渡到离子镀阶段,而脉冲磁控溅射技术为稳定沉积高质量的非导电涂层作出了重要的贡献.
关键词:
磁控溅射
,
非平衡闭合磁场
,
脉冲
,
薄膜结构
张俊敏
,
王传军
,
沈月
,
谭志龙
,
毕珺
,
闻明
,
周悓田
贵金属
采用磁控溅射方法，制备了惣不同厚度Ru薄膜为籽晶层的CoCrPt-SiO2垂直磁记录薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)分析 Ru 薄膜的结构和形貌，并悁究了其结构对CoCrPt-SiO2薄膜表面形貌、粗糙度及结构的愝响。结果表明，CoCrPt-SiO2记录层的晶粒尺寸和粗糙度均随着 Ru 籽晶层厚度的增加而增加，薄而粗糙的籽晶层适合于高密度磁记录介质。对于CoCrPt-SiO2记录层晶粒的优化，厚度为70 nm的Ru籽晶层有利于记录层薄膜晶粒的完全隔离，从而提高了磁记录性能。
关键词:
金属材料
,
垂直磁记录介质
,
CoCrPt-SiO2
,
Ru籽晶层
,
薄膜结构
,
微观形貌
惠迎雪
,
樊慧庆
,
刘卫国
材料导报
采用真空热蒸发技术在单晶硅基底上沉积PVDF薄膜.通过分析阻蒸温度对薄膜沉积速率和真空室气压变化的影响研究了PVDF镀膜过程.同时利用傅立叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线衍射(XRD)和差热分析(DSC)对薄膜的晶型结构进行了表征分析,结果发现,真空热蒸发技术可制备具有高度取向性的α晶相PVDF薄膜,且薄膜中不舍C=C键.相比于PVDF树脂粉末,所得薄膜的结晶度明显增大而分子量显著减小,实现了PVDF薄膜的低维化制备.
关键词:
PVDF薄膜
,
取向生长
,
真空热蒸发
,
α相
,
薄膜结构
丁新更
,
刘健翔
,
杨辉
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2006.04.009
采用溶胶-凝胶法在不锈钢表面制备掺银的TiO2薄膜,研究氧化处理对不锈钢表面Ag/TiO2抗菌薄膜组成和性能的影响,利用X-射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X-射线光电子能谱(XPS)等对经氧化处理和未经处理的不锈钢表面Ag/TiO2薄膜进行比较,研究薄膜的结构、界面反应特征及机制.发现:未经氧化处理的不锈钢由于其中的铁原子进入薄膜与TiO2反应形成钛酸铁固溶体薄膜;经氧化处理后不锈钢表面形成一层比较致密的氧化铁层,阻止了不锈钢内部的铁原子扩散进入薄膜与TiO2反应,表面同时形成钛酸铁和锐钛矿型的TiO2薄膜;锐钛矿型的TiO2与银离子反应形成钛酸银,既保持了银离子的高杀菌性能(样品的6小时抗菌率达到100%),同时又不至使金属银形成而使材料变色.在未经氧化处理的不锈钢表面,掺银TiO2薄膜中的银离子转化为单质银,抗菌性能低.
关键词:
表面氧化
,
薄膜结构
,
抗菌性能
,
含银二氧化钛薄膜
符策基
,
谭文长
工程热物理学报
本文利用严格耦合波分析(RCWA)的方法数值求解并分析了一个半导体硅和金属银组成的复合薄膜结构,该结构的界面处具有一维周期性的微槽结构.结果显示,微槽结构的存在大大增强了该复合薄膜结构在硅能隙对应波长附近的光谱吸收比/发射率,而在波长大于能隙波长区域仍然保持较低吸收比/发射率.增强原因是由于界面处的电磁表面波(electromagnetic surface wave)被激发以及微槽多阶衍射波的相互作用的结果.通过调整微槽的几何尺寸可对该复合薄膜结构的吸收比/发射率进行优化.这种结构在光电能量转换系统中有潜在用处.
关键词:
严格耦合波分析
,
热辐射
,
薄膜结构
,
电磁表面波
杨陈
,
樊慧庆
,
李创
,
陈晋
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.01.004
TiO2具有较高的折射率和介电常数,在光学和电子学方面有着广泛的应用.本论文采用离子束辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料,纯度为99.99%的02为反应气体,通过电子束蒸发,在玻璃衬底上反应生成TiO2薄膜.使用XRD、SEM分别对50℃、150℃、300℃三个不同衬底温度下沉积的薄膜及其经过450℃真空退火1h后的结构进行了分析,对薄膜的折射率、透射率进行了测量.结果表明,与传统的电子束蒸发相比,离子束辅助电子束蒸发可以增加成膜原子的能量,使沉积的薄膜结构致密,所制备的薄膜具有较高的折射率,并且薄膜在可见光范围内具有良好的透过性能.
关键词:
TiO2薄膜
,
电子束蒸发
,
薄膜结构
,
光学性质
张丽伟
,
卢景霄
,
李瑞
,
冯团辉
,
靳锐敏
,
张宇翔
,
李维强
,
王红娟
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.037
本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在"温度临界点",然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的"温度临界点".结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在"温度临界点";在"温度临界点"前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中"温度临界点"可能不止一个.
关键词:
温度临界点
,
薄膜结构
,
X射线衍射
,
拉曼光谱
晏建武
,
潘津
,
张晨曙
,
李卿鹏
,
官刘毅
,
谢鹏
,
徐国华
材料导报
Fe-Ga合金超磁致伸缩薄膜(GMF)具有比Terfenol-D薄膜和块体Fe-Ga合金更加优越的性能,因此,对Fe-Ga GMF的研究已日益受到人们的重视.综述了目前国内外对Fe-Ga GMF的研究现状及发展趋势.主要总结了制备工艺对Fe-Ga GMF的成分、显微结构和磁致伸缩性能的影响,以及目前人们对磁畴结构和磁致伸缩系数的本构方程的研究结果.指出了Fe-Ga GMF要走向实用化必须解决的基础科学问题.
关键词:
Fe-Ga薄膜
,
制备工艺
,
薄膜成分
,
薄膜结构
,
磁致伸缩性能
武怡
,
高斐
,
刘生忠
,
马笑轩
,
王浩石
,
宋飞莺
,
陈彦伟
材料导报
利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅(PbS)纳米晶薄膜.将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间(0～120min)的退火.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外分光光度计对PbS薄膜的结构和光学特性进行研究.PbS薄膜在玻璃基底上粘附力较强,结晶度良好,呈面心立方结构且沿(111)方向择优生长.不同的退火时间导致PbS薄膜的结构、形貌、光学特性均产生明显差异.退火30 min的PbS薄膜的结晶度最好,其带隙变化范围为0.90～1.70 eV.
关键词:
PbS薄膜
,
化学浴沉积
,
薄膜结构
,
光学特性
