赵广军
,
李涛
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2001.04.004
随着光纤通讯产业的迅猛发展,市场对3英寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石(分子式为Gd3Ga5O12,简称GGG)的需求量急剧增加.本文从磁光薄膜(YIG以及类YIG)对其外延基底单晶GGG物化性能的要求出发,综述了在利用传统的提拉法生长大尺寸、符合磁光薄膜衬底要求的Gd3Ga5O12单晶的过程中,出现的诸如Ga2O3组分挥发,界面翻转,螺旋生长和晶体的开裂等问题,针对各个问题讨论了它们的形成机制并提出了它们的解决方法.最后,还根据目前磁光薄膜的发展情况,预见了纯GGG和掺质GGG单晶的研究和发展趋势.
关键词:
YIG
,
GGG
,
螺旋生长
,
提拉法
,
组分挥发
,
界面翻转
