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CdZnTe材料(111)B和(211)B面上位错腐蚀坑密度的差异

顾惠明 , 杨建荣 , 陈新强 , 何力

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.02.012

用Everson腐蚀剂对CdZnTe晶体(111)B和(211)B面上的位错进行了腐蚀和观察,发现(111)B面上的腐蚀坑密度(EPD)值明显高于(211)B面上的EPD值,(111)B面上的EPD值与双晶衍射半峰宽有明显的依赖关系,(111)B面上的FWHM值随EPD的增加而增加.而(211)B面上的EPD则与材料的双晶衍射半峰宽无关.研究结果表明,用Everson腐蚀剂得到的EPD参数依赖于材料的晶体取向,在两种常用的晶体学取向中,(111)B面上得到的EPD能较为正确的反映CdZnTe材料中的位错密度.

关键词: CdZnTe , 位错 , 腐蚀法 , 布里奇曼法 , 衬底材料

不同衬底材料上金刚石薄膜成核特点的研究

黄树涛 , 于骏一 , 姚英学 , 袁哲俊

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.03.014

研究了金刚石薄膜在WC-6%Co硬质合金、金属W和单晶Si片上的成核特点.实验结果表明,金刚石薄膜在上述衬底材料上的成核特点和成核机制不同.用于衬底研磨预处理的金刚石微粉粒度对金刚石在单晶Si片上的成核密度有较大影响,而对在WC-6%Co硬质合金和金属W上的成核密度没有太大影响.

关键词: 金刚石薄膜 , 成核密度 , 衬底材料 , 化学气相沉积

高温超导薄膜衬底材料LaAlO3单晶的超光滑表面抛光研究

张连翰 , 孙敦陆 , 钱小波 , 杭寅

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.02.011

本文以化学机械抛光为手段,以原子力显微镜(AFM)为工具,对高温超导薄膜衬底材料LaAlO3单晶的超光滑表面抛光进行研究.既观察到了由传统光学表面向超光滑表面过渡的过程,又观察到了超光滑表面加工的结果-表面的本征化.显示了超光滑表面抛光对外延衬底表面的重要性.

关键词: 铝酸镧单晶 , 高温超导 , 衬底材料 , 超光滑表面抛光

GaN基LED衬底材料化学机械抛光研究进展

熊伟 , 储向峰 , 白林山 , 董永平 , 叶明富

表面技术

概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景.

关键词: 衬底材料 , 化学机械抛光 , 抛光工艺 , 抛光浆料

高亮度LED衬底材料研究

张克华 , 文东辉 , 袁巨龙

功能材料

衬底材料作为半导体照明产业技术发展的基石,是半导体照明产业的核心,具有举足轻重的地位,直接决定了LED芯片的制造路线.高亮度LED的半导体材料体系对衬底材料提出的要求比传统的LED更为严格.村底材料表面的粗糙度、热膨胀系数、热传导系数、极性的影响、表面的加工要求以及与外延材料间晶格间不匹配数,这些因素与高亮度LED的发光效率与稳定性密切相关.重点介绍几种典型材料与外延材料的晶格匹配及其加工要求,从材料制备难易程度和衬底与外延薄膜的化学稳定性对各种衬底材料进行比较分析,并对衬底材料的应用前景进行了预测.

关键词: 高亮度LED , 半导体照明 , 衬底材料

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