陈应龙
,
辜敏
材料保护
研究金属或半导体在溶胶中的电化学行为对电化学和溶胶-凝胶(sol-gel)法结合制备掺杂金属和半导体的复合凝胶薄膜有极大指导意义.用循环伏安(CV)和计时安培(CA)法研究了电化学和sol-gel法结合制备Cu-SiO2凝胶薄膜时不同pH值CuSO4硅溶胶中Cu在玻碳电极上的电沉积和电结晶行为.结果表明:在pH=1.0 ～3.0的CuSO4硅溶胶中,Cu2+的扩散系数在pH =2.0时最小,pH=1.0时较pH =3.0时大,这也是造成硅溶胶中pH =2.0时还原最难,pH =3.0时次之,pH=1.0时最易的原因;Cu在硅溶胶中的电沉积为Langmuir型吸附-三维瞬时成核机理;硅溶液中Cu2的传递系数均大于0.9,存在吸附层;Cu2在吸附过程的总放电量Qads随pH值增大而增大;Cu的成核数密度都随电位增大而增大,随pH值增大而减小,故pH值在1.0 ～3.0内越大越不利于制备Cu-SiO2薄膜.
关键词:
Cu-SiO2凝胶薄膜
,
电化学法
,
溶胶-凝胶法
,
循环伏安法
,
计时安培法
,
电沉积
,
电结晶
刘慧娟
,
张平
,
周琼宇
,
李珂
,
钟庆东
腐蚀与防护
在酸性硫酸盐镀液中,采用循环伏安曲线和计时安培曲线等电化学方法结合Scharifker-Hills模型对Ni W合金镀层的沉积过程进行了动力学研究.结果表明,Ni-W合金循环伏安曲线存在电流环,在玻碳电极上发生成核过程;电解液中WO42-浓度增加会促进镀层晶体形核过程.Scharifker-Hills模型分析结果表明,纯镍在玻碳电极上表现为三维生长的瞬时成核机理.在电解液中加入WO42-进行Ni-W合金共沉积时,在较小的过电位下表现为连续形核机制,在较大的过电位下与连续形核曲线略有偏离,表现为连续形核和瞬时形核共存的形核机制.
关键词:
Ni-W合金
,
电沉积
,
循环伏安曲线
,
计时安培法
,
Scharifker-Hills模型
任艳艳
,
金根娣
,
胡效亚
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2011.00431
以碳糊电极为工作电极,采用循环伏安(CV)法和示差脉冲伏安(DPV)法研究了琥乙红霉素(EEs)在电极上的电化学行为,建立了一种测定EEs的电化学新方法.研究结果表明,在0.1 mol/L磷酸盐(pH=8.0)的缓冲液中,EEs在0.83和0.97 V(vs.SCE)处出现2个氧化峰.用计时安培法(I-t)对EEs进行定量分析,峰电流Ip与琥乙红霉素的浓度分别在2.0×10-7～2.8×10-6mol/L和2.8×10-6～3.1×10-5mol/L范围内呈良好的线性关系检出限(S/N=3)为1.0×10-7mol/L.采用标准加入法测得回收率为95.0%～98.8%,RSD为3.4%(n=3).该方法具有较高的选择性和灵敏度,可用于药剂中EEs含量的测定,结果令人满意.
关键词:
琥乙红霉素
,
碳糊电极
,
电化学测定
,
计时安培法
刘彩胜
,
乔海燕
,
古宁宇
,
唐纪琳
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2012.00110
利用循环伏安法(-0.5 ～2.2 V)将4-(2-吡啶偶氮)间苯二酚(PAR)电聚合修饰到玻碳电极表面,制备了聚PAR膜过氧化氢(H2O2)传感器.并采用循环伏安法和计时安培法研究了修饰电极的电化学性质和对H2O2的响应特性.结果表明,PAR膜修饰电极在低的电位下对H2 O2具有优异的电催化还原效应.在磷酸盐缓冲溶液中(pH=8.0)用计时安培法对H2O2进行了测定(工作电位0.45 V),响应电流与其浓度在2×10-5 ～ 1.76×10-3mol/L范围内呈良好的线性关系,线性相关系数r=-0.99983,检测限(S/N=3)为3μ mol/L.该修饰电极灵敏度高、稳定性好、制备简单,在H2O2的测定中对抗坏血酸、尿酸和葡萄糖有较好的抗干扰性.
关键词:
(吡啶偶氮)间苯二酚
,
过氧化氢
,
循环伏安法
,
计时安培法
