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MOCVD生长温度控制p型InGaN形貌和电学特性提高LED光功率

韩军 , 邢艳辉 , 邓军 , 朱延旭 , 徐晨 , 沈光地

功能材料

利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN∶Mg薄膜,通过改变外延生长温度优化p型InGaN∶Mg表面形貌和电学特性。在800℃,InGaN的空穴浓度为1.9×1019cm-3,电阻率较低,通过原子力显微镜观察到粗化的样品表面有很多圆丘,其均方根粗糙度是所有样品中最高的,综合粗化的表面和优化电学特性的p-InGaN接触层的LED光功率提高23%。

关键词: Mg掺杂InGaN , 金属有机物化学气相淀积 , 原子力显微镜 , X射线双晶衍射

p型氮化镓不同掺杂方法研究

邢艳辉 , 韩军 , 邓军 , 刘建平 , 牛南辉 , 李彤 , 沈光地

功能材料

采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,对p型GaN:Mg的均匀掺杂,delta掺杂和生长停顿掺杂3种不同掺杂方法的外延片研究,通过对电学的、光学的、表面形貌分析表明,生长停顿方法的外延片有较好的晶体质量,但因生长停顿过程中引入额外杂质增加自补偿效应;delta掺杂方法明显提高了空穴浓度,降低了电阻率,提高空穴迁移率,取得较好的表面形貌.

关键词: p-氮化镓 , δ掺杂 , 原子力显微镜 , 金属有机物化学气相淀积

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