史锴
,
杨坚
,
刘慧舟
,
胡广勇
,
舒勇华
,
王晓华
,
袁冠森
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2002.03.002
系统研究了Cu-Ni 合金基带和纯Ni基带的织构形成及转变规律,重复地获得了稳定的再结晶{001}<100>立方织构.用表面氧化外延(SOE)法生成了 NiO(200)薄膜.轧制总加工率、轧制道次和轧制方向对轧制织构的形成起主要作用;再结晶温度、时间是立方织构形成的主要影响因素.在获得了强立方织构 Cu-Ni 合金基底上(其中Φ扫描曲线的半高宽(FWHM)≤10°),通过SOE方法得到了取向良好NiO(200)缓冲层.
关键词:
基带
,
立方织构
,
表面氧化外延
,
铜式织构
,
S织构
