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扩散处理对钢基铝镀层的相、形貌和性能的影响

丁志敏 , 宋建敏 , 关君实 , 沈长斌 , 阎颖 , 高宏

功能材料

用扫描电镜、X射线衍射分析测定了Q235钢表面上铝镀层经不同温度扩散处理后的相和形貌,并对其密度、硬度、与基体的结合力和耐蚀性能进行了测试.结果表明,扩散处理温度低于500℃时,铝镀层仍为Al相;为700℃时,出现了新相Al5Fe2.随扩散处理温度的升高,铝镀层的密度呈先增加而后略降低的趋势,在500℃时最大;铝镀层的硬度以及与基体的结合力在扩散处理温度较低时,变化不大,而分别在温度超过300和500℃时,均有较大程度的提高;且铝镀层在H2SO4溶液中的电化学耐蚀性不断增加.

关键词: 熔融盐 , 铝镀层 , 扩散处理 , 性能

HR-2钢表面在AlCl3-EMIC熔盐中电沉积铝镀层的织构和形貌

张桂凯 , 李炬 , 陈长安 , 向鑫 , 凌国平

稀有金属材料与工程

12~28 mA/cm2范围内,采用AlCl3-EMIC(氯化1-甲基-3-乙基咪唑)熔盐电沉积法在18~40 ℃获得铝镀层,用X射线衍射(XRD)仪和扫描电子显微镜(SEM)研究其织构与形貌.结果表明,铝镀层呈(200)晶面择优取向,其相对衍射峰强度随电流密度和沉积温度升高而减弱,随镀层厚度增加而增强.厚度为8 μm时镀层择优取向最明显,其表面颗粒呈棱锥状均匀紧密排列.电流密度为12 mA/cm2时,随温度升高镀层由(200)晶面择优取向转变为(200)和(222)晶面择优取向,其表面颗粒随之由较均匀的棱锥状转变为不规则的核桃仁状.讨论镀层织构形成的可能机制.

关键词: 熔盐电沉积 , 铝镀层 , 择优取向 , 表面形貌

高分子涂层表面镀层的耐蚀性实验研究

刘际伟 , 古忠云

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.010

对2种磁控溅射膜层的耐酸碱腐蚀性、耐盐雾腐蚀性进行了实验研究.结果表明,磁控溅射铝镀层不耐酸碱腐蚀,不耐盐雾腐蚀,磁控溅射锆镀层具有优异的耐酸碱腐蚀性能,耐盐雾性能良好.盐雾腐蚀实验后,锆镀层表面仅出现了轻微的发花现象,但镀层没有失效.

关键词: 高分子涂层 , 磁控溅射 , 铝镀层 , 锆镀层 , 盐雾试验

阴极刻蚀法制备超疏水铝镀层及其抗腐蚀性能研究

陈志磊 , 帅茂兵

表面技术

对硅基磁控溅射铝镀层表面加载阴极电流,在镀层表面构建了微纳复合结构,并通过十四酸修饰获得稳定的超疏水膜.研究了超疏水表面的形成机制与结构特征,分析了超疏水表面的抗腐蚀性能.结果表明:经阴极刻蚀处理后,铝镀层表面形成了覆盖纳米级絮状物的腐蚀孔,呈现出珊瑚网状结构;再经十四酸有机修饰后,达到超疏水状态,十四酸在镀层表面形成了稳定的化学吸附,样品腐蚀阻效达到98.9%,抗腐蚀性能显著提高.

关键词: 铝镀层 , 阴极刻蚀 , 超疏水 , 抗腐蚀

铀表面铝镀层热应力的有限元分析

董平

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2006.06.003

对铀表面磁控溅射沉积铝镀层的热应力进行了热弹塑性有限元分析.结果表明:镀层内的热应力较大,达到铝的屈服强度,镀层界面两侧存在明显应力梯度,试样侧边存在由于边缘效应引起的应力分布不均匀性,至侧边约4倍镀层厚度处,应力分布不均匀性逐渐消失;沉积温度升高,界面塑性应变明显增大,镀层弹性模量和泊松比对镀层界面热应力和塑性应变的影响较小,而屈服强度的影响较大,减薄镀层厚度有利于改善镀层界面的热应力和塑性应变.

关键词: , 铝镀层 , 热应力 , 有限元分析

热等静压处理对铀表面铝镀层耐腐蚀性能的影响

王庆富 , 张羽廷 , 谢东华 , 张鹏程 , 刘婷婷

稀有金属材料与工程

采用热等静压(HIP)技术对铀表面铝镀层进行处理,利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对样品在50 μL/L Cl的KC1水溶液中的电化学腐蚀行为进行研究.结果表明:200℃,0.5 h,60 MPa HIP处理的铝镀层耐腐蚀性能优于未处理镀层;480℃,1.0 h,60MPa HIP处理镀层的耐腐蚀性能下降较为明显;HIP处理后样品的腐蚀特征为典型的局部腐蚀,在腐蚀过程中会出现镀层的破裂、剥落.

关键词: , 铝镀层 , 热等静压 , 电化学腐蚀

TMA对熔融盐中铝镀层结构及耐蚀性的影响

王小花杨占红李旺兴陈建华王升威李景威

中国腐蚀与防护学报 doi:1005-4537(2009)050360-05

在摩尔比为0.66: 0.17: 0.17 的AlCl3-NaCl-KCl共融盐中添加表面活化剂四甲基氯化铵(TMA),接通直流电在铁片上获得了Al镀层。用扫描电子显微分析、X射线衍射分析和极化曲线等技术测试镀层的表面形貌、相结构及耐腐蚀性能,并用循环伏安法研究添加TMA对Al电沉积机理的影响。研究表明,添加1.0 mass%TMA时,电镀电流效率高达93.6%;纯氯化物熔盐中所得Al 晶粒呈针状,为 (200) 面高择优取向的面心立方结构,添加TMA后获得的 Al晶粒细化且形状不规则,呈无序晶面取向。添加TMA后,Al镀层的点腐蚀电位提高了0.12 V,同时增加了电沉积反应的不可逆程度,利于Al 在熔融盐中的电镀。

关键词: 四甲基氯化铵 , AlCl3-NaCl-KCl molten salt , aluminum coating , crystal orientation , corrosion resistance , null

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