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ISI/IMs共混型镶嵌荷电膜的研制

程淑英 , 孙本惠 , 李文昌 , 武冠英

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.1998.04.009

以嵌段共聚物ISI和IMs的共混物为原料,PP微孔膜为基膜制成了复合膜,再经过交联、季胺化和磺化而制成了一种新的共混型镶嵌荷电膜.进一步的研究显示,该膜具有典型的镶嵌荷电膜结构及性能特点,与MsISIMs五嵌段荷电膜具有相似的膜形态与膜结构;电性能也十分相近,膜面电阻分别为350、970 Ω·cm2,电压渗系数分别为8×10-9、6.1×10-9V/Pa.表明可以用ISI/Ms共混物代替五嵌段共聚物MsISIMs来制备镶嵌荷电膜,该制备方法更具实用性.

关键词: 镶嵌荷电膜 , 嵌段共聚物 , 共混 , 膜结构 , 膜性能

MsISIMs五嵌段镶嵌荷电膜的研制

孙本惠 , 胡江洪 , 程淑英 , 李文昌 , 武冠英

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.1998.03.009

以五嵌段聚合物MsISIMs为原料、PP微孔膜为基膜制备复合膜,再经化学改性而制成一种新型镶嵌荷电膜.测试结果表明,该膜具有精细的微观相分离结构,由阴离子交换区域、中性区域、阳离子交换区域交替排列组成,其阴、阳离子交换区域尺寸约为0.01 μm,十分有利于提高离子迁移效率和分离效果;该膜的膜面电阻为9.7×102 Ω·cm2,电压渗析系数值β=1.4×10-9V/Pa;基膜的接触角θ=98°;而荷电复合膜的θ=69°;表明该膜具备典型的镶嵌荷电膜特点.

关键词: 镶嵌荷电膜 , 嵌段共聚物 , 膜结构 , 膜性能

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