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阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究

卢春灿 , 聂朝胤 , 潘婧 , 贾晓芳 , 谢红梅 , 杨娟

材料导报

采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜.采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜.当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳.离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善.

关键词: 阳极线性离子源 , 磁控溅射 , 低温 , 氮化钛 , 结合强度

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