王成龙
,
范多旺
,
刘红忠
,
赵琳
,
卢萍
,
冷娜
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2008.04.004
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究.结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV).此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象.真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用.
关键词:
镁合金
,
阴极多弧离子
,
TiN复合层
