龚晓钟
,
田鹏
,
卢向阳
稀有金属材料与工程
在草酸电解液中用二次阳极氧化法制备多孔阳极化氧化铝(AnodicAluminum Oxide,AAO)模板.通过对电流密度、氧化时间、电解液浓度等参数的调整,最终获得孔洞分布均匀、孔径基本一致、孔口呈六边形的AAO模板.采用不去除中间铝,用逐级降压法和电化学法减薄阻挡层,然后利用中间铝作为电极,在非水体系中以AAO为模板,直流电沉积钆钴合金纳米线阵列.经过SEM观测,AAO模板孔径在60 nm左右,去阻挡层前后变化不大,制备的钆钴合金纳米线排列有序、尺寸一致;EDS测定表明纳米线为钆钴合金及少量氧化物纳米线,钆钴摩尔质量比为1:7.5,钆钴合金质量分数为90.66%;XRD分析图谱表明所得到的钆钴合金纳米线为非晶态.
关键词:
稀土金属材料
,
纳米线
,
钆钴合金
,
非水体系
,
电沉积
,
阻挡层
,
氧化铝模板
龚晓钟
,
汤皎宁
,
徐松志
,
田鹏
稀有金属材料与工程
在草酸电解液中用二次阳极氧化法制备多孔阳极化氧化铝(PAA)模板.通过对各种工艺参数(如电流密度、氧化时间、电解液浓度等)的调整,最终获得孔洞分布均匀、孔径基本一致、孔口呈六边形的PAA模板.同时在不剥离膜的情况下去除阻挡层,使原残留的铝成为基底,起电极作用.在非水体系中,用模板直流电沉积成功地制备了稀土单质Nd纳米线.经过SEM观测,PAA模板孔径在60nm 左右,去阻挡层前后变化不大,制备的Nd纳米线排列有序,尺寸一致:EDS测定表明纳米线为单质Nd及少量Nd2O3纳米线,单质Nd含量为92.73wt%;XRD分析图谱显示所得到的单质Nd及Nd2O3纳米线都为六方结构.
关键词:
金属材料
,
纳米线
,
稀土单质钕
,
非水体系
,
电沉积
,
阻挡层
,
氧化铝模板
张胜涛
,
曹阿林
材料保护
为研究铝阳极氧化膜氧化生成机理,采用恒流电解法,对铝试样在硫酸中的阳极氧化过程进行了研究.通过对铝阳极氧化时的阳极氧化电位-时间关系分析发现,阳极氧化电位出现规则的阶跃现象,其阶跃电位为0.039 0 V,根据其氧化电流密度-时间曲线计算出阳极氧化膜的孔隙率为0.1.结果分析表明,氧化电位阶跃与阻挡层厚度的增加密切相关,氧化电位的阶跃主要是由于阻挡层的增厚引起的,阻挡层首先在孔隙面积上生成,当厚度每增加1.530×10-8cm时,发生铺展作用.
关键词:
纯铝材
,
阳极氧化
,
硫酸
,
恒电流
,
阻挡层
,
电位阶跃
,
机理
李彤
,
李驰平
,
王波
,
宋雪梅
,
张铭
,
严辉
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.05.011
对用磁控溅射方法在硅基上直接沉积La0.8Sr0.2MnO3和引入SrMnO3(SMO)阻挡层后沉积La0.8Sr0.2MnO3进行了比较.对薄膜结构用X射线衍射试验表征,并分析了薄膜取向生长的原因.卢瑟福背散射实验结果表明,SMO阻挡层的引入显著地削弱了LSMO和Si界面层处的元素互扩散.电学测试表明LSMO/SMO/Si结构比LSMO/Si结构具有更好的p-n结整流特性,而且随SMO缓冲层的增厚,整流特性反而削弱.
关键词:
p-n结
,
阻挡层
,
择优取向
,
整流特性
任国强
,
邢金柱
,
李晓红
,
郭建新
,
代秀红
,
杨保柱
,
赵庆勋
功能材料
应用射频磁控溅射法在（001）Si衬底上制备了Cu（120nm）/Ta（5nm）/Ti-Al（5nm）/Si异质结,借助原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）和四探针测试仪（FPP）等方法研究了Ta（5nm）/Ti-Al（5nm）集成薄膜用作Cu和Si之间阻挡层的结构和性能。研究发现,Cu/Ta/Ti-Al/Si异质结即使经受850℃高温退火后,样品的XRD图中也没有出现杂峰,表明样品各层之间没有发生明显的化学反应。相对于800℃退火的样品,850℃退火样品的表面均方根粗糙度急剧增大,同时方块电阻也增加了一个数量级,表明Ta（5nm）/Ti-Al（5nm）集成薄膜在850℃时,阻挡性能完全失效。由于Ta和Cu之间存在良好粘附性以及Ti-Al强的化学稳定性,Ta（5nm）/Ti-Al（5nm）集成薄膜在800℃以下具有良好的阻挡性能。
关键词:
Cu互连
,
阻挡层
,
Ta/Ti-Al
,
射频磁控溅射
白芸
,
韩恩厚
,
谭若兵
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.03.005
为了研究SiCP/2024Al复合材料阳极氧化的保护效果,用电化学方法、浸泡试验和盐雾试验研究了该复合材料及相应的施加阳极氧化保护试样在3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为,并用扫描电子显微镜(SEM)对腐蚀形貌和氧化膜的微观形态进行了观察.结果表明:SiCP/2024Al经过阳极氧化后在3.5%NaCl溶液中的耐蚀性明显提高,Ecorr和Epit正移150 mV,Icorr从3.650 μA减小到0.358 μA,腐蚀速率由0.336 mm/a下降到0.122 mm/a;虽然SiC颗粒的存在影响了阻挡层的连续性,但多孔层仍能在电解质/材料界面不断生成,并且多孔层上的孔隙可以在封孔过程中得以闭合.
关键词:
铝复合材料
,
阳极氧化
,
SiC
,
耐蚀性
,
阻挡层
,
多孔层
单丽梅
,
赵平
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.04.014
为了了解氢渗透阻挡层的阻氢机理,在氢化锆表面电镀Cr-C后,再对镀层进行热处理(400℃),最后把试样在700℃的真空中保温10h.用EDS法对没有进行热处理的镀层的成分进行分析,再用X射线光电子能谱(XPS)研究氢渗透阻挡层不同深度处的化学态,并对阻挡层原子进行定量分析.结果发现:未热处理的镀层主要含有C和Cr,阻挡层中含有C、O、Cr和Zr,进行氢渗透试验(700℃保温)后的阻挡层中C-H和O-H含量都增加,前者更明显.由此可说明H因破坏C、O原来的成键方式而被C、O捕捉,C对氢渗透阻挡层的作用大于O的作用.
关键词:
氢化锆
,
阻挡层
,
碳
,
氧
吴永炘
,
文效忠
,
杨志雄
,
萧祖隆
,
李志勇
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2000.06.001
铜和铜合金饰品表面需镀金,由于铜扩散至镀金层表面,引起金层变色.本文提出以电镀钴钨二元合金镀层作为防铜渗层.实验表明,随着镀液中钨离子浓度的不同和电流密度的改变,钴钨合金镀层组成不同.当镀液中钨离子含量低,电流密度低时,镀层为晶态结构;当镀液中钨离子含量高,电流密度大时,镀层呈非晶态或混合微晶态结构.同时比较了在400～800℃下,钴钨合金镀层与镍层、钴层的防铜渗能力.当温度低于500℃时,钴钨合金镀层的防铜渗性能优于后二者.
关键词:
钴钨镀层
,
镍镀层
,
钴镀层
,
扩散性
,
铜和铜合金
,
阻挡层
胡颂伟
,
蔡沈嫄
,
张少瑜
,
王晶
,
宋晔
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.18.005
为了制备规则有序、大孔间距的多孔阳极氧化铝(PAA)模板,通过在传统的草酸溶液中添加乙醇以及阶梯升压的方法,使草酸溶液的耐压从原来的40 V左右提高至150 V,制备了大孔径(约200 nm)、大孔间距(约350 nm)的有序 PAA模板。详细研究了这种高电压氧化得到的具有较厚阻挡层 PAA 模板的通孔工艺,实验结果表明,在5%(质量分数)磷酸水溶液中30℃下浸泡180 min,可以得到有序的 PAA 通孔模板,首次计算了阻挡层的减薄速率为约1.26 nm/min。
关键词:
多孔阳极氧化铝
,
阻挡层
,
模板
,
阳极氧化
单丽梅
,
赵平
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.02.005
为了了解氢渗透阻挡层在700℃下的CO2气氛中的工作能力,用电镀Cr-C的方法在氢化锆表面建立氢渗透阻挡层后,在0.1MPa的CO2气氛中700℃下保温72h,再用SEM对其表面进行观察分析.结果发现,阻挡层有粉化现象且在局部发生脱皮和剥落.分析粉化的原因是阻挡层中的碳达到过饱和,在脱落处的表面发现的空洞可以说明预存的物理缺陷是阻挡层发生剥落的必要条件.由此可以确定这种氢渗透阻挡层在700℃下不宜在CO2气氛中使用.
关键词:
氢化锆
,
阻挡层
,
剥落
,
碳化
