郭巧琴
,
李建平
,
郭永春
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.08.003
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在铝合金表面沉积类石墨镀层.采用原子力显微镜对镀层的微观形貌进行观察,采用划痕附着力测试仪对镀层的膜基临界载荷进行测试,利用维氏显微硬度计和销-盘摩擦磨损试验机对镀层的显微硬度及摩擦系数进行了测试.研究结果表明,基体偏压在-60V～-120V范围内,类石墨镀层以岛状方式生长,且随偏压值增大,镀层晶粒和粗糙度减小;随基体偏压值增大,镀层膜基临界载荷逐渐增大,摩擦系数逐渐减小,当基体偏压值为-120V时,镀层临界载荷为42N,硬度最高为235 HV0.025,摩擦系数为0.19.磨损机制由粘着磨损和磨粒磨损为主转变为以磨粒磨损为主.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
铝合金
,
类石墨镀层
,
硬度
,
摩擦系数
严东旭
,
刘天伟
,
龙重
,
白彬
,
张鹏程
,
黄河
,
郎定木
,
王晓红
,
朱建国
材料保护
采用单一的表面改性技术难以提高贫铀钛合金(Du-Ti)的耐蚀性能.采用等离子体浸没离子注入技术依次在Du-Ti合金表面注入N和Ti,再利用非平衡脉冲磁控溅射技术制备多层Ti/,TiN,研究了膜层的形貌、结构及耐蚀性能.结果表明:膜层厚约3μm,呈柱状结构,致密,但存在一些微缺陷,膜基结合紧密;膜层出现面心立方结构的TiN和密排六方的Ti,在DU-Ti合金界面形成了少量的UO2,没有铀的氮化物;膜层耐蚀性能较基体得到较大提高;微观缺陷是TiN层局部片状脱落的主要原因,外层TiN出现片状脱落后.注入层和内层Ti/TiN多层膜仍能有效保护基体.
关键词:
等离子体浸没离子注入
,
非平衡磁控溅射
,
复合膜
,
DU-Ti合金
,
电化学腐蚀
,
耐蚀性
严少平
,
蒋百灵
,
段冰
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.06.028
用非平衡磁控溅射离子镀技术制备含铬类石墨镀层,研究了石墨靶电流对磁控溅射法制备类石墨镀层摩擦性能的影响.通过扫描电镜、原子力显微镜、透射电镜等分析了镀层的表面形貌与组织.结果表明:所制备镀层的硬度随着石墨靶电流的升高而增加;镀层的摩擦系数和比磨损率随靶电流的增大呈现先降后升的趋势;扫描电镜和原子力显微镜图片分析表明镀层表面呈典型的岛团状聚集态,且随着石墨靶电流增大,镀层表面岛团状尺寸变大、镀层表面粗糙度随之增大.用高分辨透射电镜分析显示:靶电流较小时碳层中出现Cr元素富集区,随着石墨靶电流的增大,表面层中的Cr弥散分布.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
类石墨镀层
,
靶电流
,
摩擦性能
胡芳
,
代明江
,
林松盛
,
李福球
,
崔晓龙
,
鲍贤勇
电镀与涂饰
为解决手表外观件镀层的附着力和硬度不高而产生的膜层脱落和磨损露底等问题,采用阳极层流型气体离子源结合非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石膜层,研究了镀前清洗工艺对膜层附着力和耐磨性能的影响.结果表明,所制备的类金刚石膜均匀亮黑,显微硬度为2 232 HV,摩擦系数为0.15.在同一镀膜工艺条件下,手表外观件经彻底清洗后,其膜/基结合力最高(达58 N),抗振动磨损性能最佳(达8h以上),具有良好的机械综合性能.
关键词:
手表外现件
,
类金刚石膜
,
非平衡磁控溅射
,
清洗预处理
,
附着力
,
抗振动磨损性
张以忱
,
吴宇峰
,
巴德纯
,
马胜歌
钢铁研究学报
采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti/TiN/Ti(C,N)膜系的硬质薄膜.通过改变工作气氛、基体负偏压等工艺参数,对制备薄膜的硬度进行检测分析,结果表明:在Ti(C,N)薄膜的制备中,工作气氛和基体负偏压是影响薄膜硬度的主要因素.当工作气体的通人比例C2H2/(N2+Ar)＜1/9时,薄膜硬度较高.当通入的乙炔(C2H2)流量增加时,会明显降低薄膜硬度.当基体负偏压在一定范围内增加时,薄膜硬度随之逐渐提高;当负偏压增加到200 V时,薄膜硬度最大;负偏压超过200 V,薄膜硬度明显下降.基体材料对薄膜硬度的影响较大,在不同基体材料上镀制同一种硬质薄膜时,薄膜硬度不同;3种基体材料上沉积薄膜的硬度数316L不锈钢基体上的薄膜硬度最低.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
Ti(C,N)薄膜
,
薄膜硬度
,
基体负偏压
王艳
稀有金属材料与工程
选用Ti6Al4V合金作为基体材料,并对其进行N+注入以及非平衡磁控溅射TiN膜制得两种改性试样,借助Phillips X'Pert型X射线衍射仪、扫描电子显微镜(SEM)及台阶仪等表征试样及考察改性层的冲击磨损行为,研究认为:在反复冲击载荷作用下,两试样均出现了疲劳磨损现象,但N+注入试样的磨损机制主要是点蚀及疲劳剥落；而TiN膜的磨损机制主要是剥层失效并伴有一定的磨粒磨损；试样的抗冲击磨损性能受多因素制约,如膜层硬度,膜-基结合强度、膜层韧性等.
关键词:
N+注入
,
非平衡磁控溅射
,
TiN膜
,
冲击磨损
,
磨损行为
苑俊峰
,
施雯
,
李潇
,
张健
上海金属
doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2012.04.003
采用非平衡闭合场磁控溅射技术,在冷作模具钢Cr12MoV表面制备不同偏压CrMoN涂层.通过XRD、SEM、显微硬度和磨损试验分析等方法考察涂层的相结构、力学性能与耐磨性.实验结果表明:呈面心立方结构的CrMoN涂层不同程度地强化了基体表面(HV0.25N1 000～1 800),摩擦系数降低至0.3～0.35,经18h磨损试验后,60、75 V偏压沉积的涂层的磨损体积(2.01×10-3mm3)约为未处理试样磨损体积(10.01×10-3mm3)的1/5.涂层磨损机理主要为“微犁沟”的磨粒磨损.
关键词:
Cr12MoV钢
,
非平衡磁控溅射
,
CrMoN涂层
,
摩擦磨损
林松盛
,
周克崧
,
代明江
中国有色金属学报
采用阳极型气体离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在单晶硅及Ti6Al4V钛合金基体上制备掺钨类金刚石多层膜(DLC/WC),利用俄歇电子谱(AES)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)及X射线衍射(XRD)等对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究.结果表明:所制备的膜层厚2.7μm,硬度高达3550HV,摩擦因数为0.139,与Ti6Al4V基体结合力为52 N;W主要以纳米晶WC的形式与非晶DLC形成WC/DLC多层膜,该多层膜仍呈现出类金刚石膜的主要特征.
关键词:
类金刚石/碳化钨多层膜
,
微观结构
,
离子源
,
非平衡磁控溅射
徐禄祥
,
冷永祥
,
黄楠
功能材料
用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素.
关键词:
氧化钛薄膜
,
非平衡磁控溅射
,
晶体结构
,
离子/原子到达比
