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以Ni-Al为底电极的P(VDF-TrFE)铁电电容器的结构与性能

闫会芳 , 赵庆勋 , 付跃举 , 刘卓佳 , 张婷 , 郭建新 , 任国强 , 刘保亭

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2012.01.015

应用磁控溅射法制备Ni-Al和Pt薄膜,溶胶-凝胶法制备P(VDF-TrFE)铁电共聚物薄膜,在SiO2/Si(001)衬底上首次构架了Pt/P( VDF-TrFE )/Ni-Al异质结电容器.X射线衍射(XRD)结果表明:Ni-Al薄膜为非晶结构,P(VDF-TrFE)薄膜具有较好的结晶质量.研究发现,在20 Hz测试频率下,Pt/P(VDF-TrFE)/Ni-Al电容器具有饱和的电滞回线,在90 V驱动电压下,剩余极化强度与矫顽场分别为7.6 μC/cm2和45.7 V.在外加电压为40 V时,薄膜的漏电流密度约为5.37×10-6A/cm2.漏电机制研究表明,Pt/P( VDF-TrFE )/Ni-Al电容器满足欧姆导电机制.铁电电容器经过109极化反转后没有发现明显的疲劳现象.

关键词: P(VDF-TrFE) , 铁电薄膜 , 非晶Ni-Al , 溶胶-凝胶

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