王晓强
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甄聪棉
硅酸盐通报
在室温下用3 MeV的硅离子对聚酰亚胺(PI)薄膜进行注入,注入离子浓度为1×1012～1×1015 ions/cm2.对注入后的样品进行了拉曼光谱和电学性质的测试.拉曼分析表明:随注入量的增大,PI薄膜的结构有从绝缘体→类金刚石→石墨这样一个逐渐碳化的变化过程,即样品中的苯环,-CH3-等官能团减少,说明样品随注入量的增大逐渐碳化;电学性质测量表明,随着注入量的增大,样品的电阻逐渐下降.分析认为离子注入使聚合物碳化是引起聚合物电学性质发生改变的重要原因.
关键词:
聚酰亚胺薄膜
,
高能离子
,
注入
,
改性
张艺
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刘俊友
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赵天林
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赵钢
稀有金属材料与工程
对紫铜表面进行高能离子注渗Ni、Al试验的对渗层组织、成分分布进行了观察与分析,并同单元注渗Ni实验进行了比较分析.结果表明,紫铜表面高能离子注渗镍的渗层与铜基体结合良好,由表及里镍含量呈梯度分布,紫铜高能离子注渗Ni、Al的渗层组织和渗Ni组织大致相似,渗层表面出现"贫Al现象",即铝向基体扩散,最终主要集中在渗层的中部.
关键词:
紫铜
,
高能离子
,
渗镍
,
渗铝
