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薄膜太阳电池用TCO薄膜制造技术及其特性研究

陈新亮 , 王斐 , 闫聪博 , 李林娜 , 林泉 , 倪牮 , 张晓丹 , 耿新华 , 赵颖

材料导报

阐述了玻璃衬底、柔性衬底透明导电氧化物薄膜(Transparent conductive oxides-TCO)以及硅基薄膜太阳电池应用方面的最新研究成果.绒面结构可以提高薄膜太阳电池效率和稳定性并降低生产成本.磁控溅射技术和LP-MOCVD技术是制造绒面结构ZnO-TCO薄膜(例如“弹坑”状和“类金字塔”状表面)的主流生长技术;高迁移率TCO薄膜(IMO、IWO、ZnO∶Ga等)以及柔性衬底TCO薄膜是研究开发的重点.

关键词: 镀膜技术 , TCO薄膜 , 绒面结构 , 高迁移率 , 缓冲层 , 梯度掺杂 , 薄膜太阳电池

SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响

任世荣 , 陈新亮 , 张存善 , 孙建 , 张晓丹 , 耿新华 , 赵颖

人工晶体学报

利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO( In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究.SiO2缓冲层在室温生长.SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜.实验获得的具有SiO2阻挡层的IWO薄膜的电子迁移率μ~54.5 cm2·V-1·s-1,电阻率p ~5.86×10-4Ω,cm,电子载流子浓度n~ 1.95×1020 cm-3,400~1600nm砌光谱区域内的平均透过率~76%.

关键词: 电子束沉积技术 , SiO2阻挡层 , IWO薄膜 , 高迁移率

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