乔桂英
,
荆天辅
,
高明
,
王艳
,
高聿为
,
韩东升
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2004.01.016
采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比.结果表明:采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右.随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变.电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸.与一般槽镀相比,晶粒尺寸由23.07nm减小到9.18nm.
关键词:
高速喷射电沉积
,
块体纳米晶Co-Ni合金
,
沉积速率
,
微观结构
