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退火对电子辐照氮化镓光电性能的影响

梁李敏 , 解新建 , 郝秋艳 , 田园 , 刘彩池

人工晶体学报

本文对10 MeV电子辐照的GaN进行了不同温度的热退火处理.用光致发光谱和霍尔测量了样品的光电性能随退火温度的变化.实验结果表明:黄光带强度、电子浓度和电子迁移率随退火温度呈非线性变化.在200~600℃退火范围内,黄光带、电子浓度和电子迁移率的变化是由于辐照Ga空位与O施主杂质的结合和断裂引起的.800℃退火后黄光带、电子浓度和电子迁移率的变化与电子辐照引入的N空位有关.

关键词: GaN , 辐照缺陷 , 黄光带 , 电子浓度

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