铁伟伟
,
张艳鸽
,
郑直
,
李升熙
,
李香丹
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153005.0763
采用反应性液晶通过光聚合反应与聚芳醚光取向膜复合方法,制备了平面转换(In-plane switching,IPS)液晶显示器件,并在高温状态下对其光电显示和取向稳定性能进行了研究。结果显示,与单一聚芳醚光取向膜相比,利用复合光取向膜制备的 IPS 器件在高温状态下的光电显示和液晶取向稳定性能都得到了明显提高,在65℃明亮显示20 h 无液晶取向变化,在120℃维持2 h 无明显光量渗透。在线偏振紫外光下,光敏聚芳醚薄膜发生各向异性光交联反应,其交联程度最高可达67．4％。SEM 分析结果发现,反应性液晶单体在 UV 光照射下,在聚芳醚光取向膜表面上发生了各向异性光聚合反应,沿先前光取向方向形成长度为0．4μm 左右的棒状聚合物,有效限制了光取向膜中未交联的柔性基团的活动能力,进而有效增强了复合取向膜对液晶的取向稳定性。
关键词:
光敏聚芳醚
,
光控取向
,
反应性液晶
,
光取向稳定性
彭增辉
,
张伶莉
,
刘永刚
,
宣丽
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.02.002
通过两次光照法制备了一种基于共价键结构的自组装光控取向膜.首先采用重氮树脂与聚(4-丙烯酰氧基肉桂酸(4′-磺酸钠)苯酚酯)在水溶液状态下通过静电离子沉积法制备了layer-by-layer型的自组装多层膜,制备过程的紫外-可见光谱表明薄膜为逐层、均匀沉积.第一次光照将膜层间的重氮磺酸盐离子键转化为共价键结构,然后采用线性偏振紫外光进行第二次光照,获得具有各向异性的光控取向膜.紫外-可见光谱法证实了薄膜辐照过程中的光化学反应方式.这种液晶光控取向膜可以水平均匀取向向列相液晶,而且具有良好的热稳定性,可达到150 ℃.
关键词:
液晶
,
光控取向膜
,
自组装膜
,
高稳定性
李姝静
,
周自若
,
岳军治
,
周威
,
王心蕊
,
白冬生
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2015.06.487
以羟丙基-β-环糊精(HP-β-CD)为主体,采用冷冻干燥法制备了虎杖甙的包合物,通过相溶解度法、粉末X射线衍射谱图(XRD)、热重分析(TG)、差示扫描量热法(DSC)、扫描电子显微镜(SEM)研究了HP-β-CD与虎杖甙的主客体作用,并考察了包合作用对虎杖甙光稳定性的影响.结果表明,HP-β-CD与虎杖甙形成了包合比为1∶1的包合物,缔合常数为1308 mol-1·L;包合后虎杖甙在水中的溶解度提高10倍以上,热稳定性提高,分解温度从270℃提高至298℃;光稳定性实验表明包合后虎杖甙的光稳定性得到了有效提高.这为虎杖甙在食品、化妆品等领域的使用提供了新的方法和信息.
关键词:
虎杖甙
,
环糊精
,
包合物
,
溶解性
,
光稳定性
谢普会
,
郭丰启
,
李娟
,
何勇
影像科学与光化学
合成了几种芳香重氮盐感光材料,发现1的最大吸收峰位于343 nm,与355 nm激光器的光谱能很好地重叠.2和3的吸收光谱分别红移至453 nm和433 nm,在可见光范围内与高压汞灯有很大的光谱重叠.2具有比3更好的热稳定性及快速的光分解速度.
关键词:
芳香重氮盐
,
光谱重叠
,
光稳定性
,
热稳定性
王重辉
,
冀运东
,
李俊
材料科学与工艺
为了制备大分子型受阻胺光稳定剂,利用1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇与酸酐在甲苯中进行反应,生成了含有酯基的三级胺盐,用FT-IR及1H-NMR对该胺盐的化学结构进行了鉴定,并利用TG-DTA技术考察其热性质.用该胺盐在甲苯-乙醇混合溶媒中与经胺基类硅烷偶联剂处理过的二氧化硅粉反应,通过共沸蒸馏及在130℃真空干燥得到了含有受阻胺构造的光稳定性复合微粒子.探讨了受阻胺光稳定复合微粒子的合成路径,推测了其反应机理.
关键词:
受阻胺
,
胺盐
,
光稳定性
,
复合微粒子
,
表面改性
蒋圣评
,
李承璋
,
赖威宏
,
赵宏昌
,
陈君维
,
林宗贤
,
洪子圣
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163102.0125
聚合物分散型液晶组件技术是市面上常用的散射式光开关系统,且常常应用于具隐私保护性之电控切换窗户中.然而对于室外的应用,属于有机高分子材料的液晶材料与聚合物结构对于照射紫外光之稳定性与耐受性值得被讨论,尤其是较少被讨论之高分子聚合物结构的影响.本研究主要探讨不同聚合物结构之聚合物分散型液晶组件在紫外光照射下光电特性的变化,期待可以了解聚合物结构特性随曝光时间的变化并提出适当之改善方法.本实验藉由选择具有高紫外光稳定性之主体液晶搭配紫外固化胶调配聚合物分散型液晶预聚物,分别探讨不同固化胶比例与光强度等固化条件下,组件照射紫外光后对于光电特性造成的影响,以此了解各种聚合物形貌照射紫外光后之光电特性变化.实验结果显示,照射紫外光后,各种聚合物分散型液晶组件之临界电压仅仅些微提升,但下降时间剧烈地提高,以聚合物比例35％、固化强度2 mW/cm2为例,临界电压从15.57 V些微提升至18.18 V,下降时间从195.12 ms大幅提升至925.26ms.此外,本研究亦发现相对于照射前,照射紫外光后之组件的下降时间对于电压施加时间长短相当敏感,且此现象可藉由调整固化光强度与固化胶浓度有抑制之趋势.本研究呈现了各种聚合物分散型液晶组件在照射紫外光后光电特性的变化,并了解聚合物结构的特性变化的影响.
关键词:
聚合物分散型液晶组件
,
紫外光稳定性
,
临界电压
,
反应时间
王飞
,
王浩江
,
雷祖碧
,
杨育农
合成材料老化与应用
以受阻胺光稳定剂和紫外线吸收剂对聚甲醛（ POM）进行光稳定化耐候改性，并对制得的耐候POM的力学性能和人工加速老化行为进行了测试和评价。结果表明，经氙灯人工加速老化1000 h后，试样的拉伸强度保持率、断裂伸长率保持率和缺口冲击强度保持率分别达到103％、76.2％和84.4％，色差由7.6减小至0.8，远优于未经光稳定化处理的POM的相应性能。
关键词:
聚甲醛(POM)
,
耐候
,
光稳定化
,
老化
,
改性
郭巍巍
,
齐成军
,
李小武
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2015.00572
在不同塑性应变幅下对共轭双滑移和[017]临界双滑移取向Cu单晶体进行疲劳实验直至循环饱和, 然后在不同温度下进行退火处理, 考察了其位错结构的热稳定性. 结果表明, 300 ℃退火处理后, 位错结构发生了明显的回复; 500和800 ℃退火处理后, 均发生了明显的再结晶现象, 并伴随退火孪晶的形成. 不同取向Cu单晶体循环变形后形成不同的位错结构, 其热稳定性由高到低依次为: 脉络结构、驻留滑移带(PSB)结构、迷宫或胞结构. 不同取向疲劳变形Cu单晶体中形成的退火孪晶均沿着疲劳后开动的滑移面方向发展, 疲劳后的滑移变形程度越高, 退火后形成的孪晶数量则越多. 但过高的退火温度(如800 ℃)会加快再结晶晶界的迁移速率, 进而抑制孪晶的形成, 致使孪晶数量有所减少.
关键词:
Cu单晶体
,
疲劳位错结构
,
热稳定性
,
晶体取向
,
再结晶
,
退火孪晶
郭巍巍
,
齐成军
,
李小武
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2015.00572
在不同塑性应变幅下对[223]共轭双滑移和[017]临界双滑移取向Cu单晶体进行疲劳实验直至循环饱和,然后在不同温度下进行退火处理,考察了其位错结构的热稳定性.结果表明,300℃退火处理后,位错结构发生了明显的回复;500和800℃退火处理后,均发生了明显的再结晶现象,并伴随退火孪晶的形成.不同取向Cu单晶体循环变形后形成不同的位错结构,其热稳定性由高到低依次为:脉络结构、驻留滑移带(PSB)结构、迷宫或胞结构.不同取向疲劳变形Cu单晶体中形成的退火孪晶均沿着疲劳后开动的滑移面方向发展,疲劳后的滑移变形程度越高,退火后形成的孪晶数量则越多.但过高的退火温度(如800℃)会加快再结晶晶界的迁移速率,进而抑制孪晶的形成,致使孪晶数量有所减少.
关键词:
Cu单晶体
,
疲劳位错结构
,
热稳定性
,
晶体取向
,
再结晶
,
退火孪晶
