牛小丫
,
许晓静
,
盛新兰
,
张体峰
,
刘敏
,
朱利华
稀有金属材料与工程
研究了常规纯钛和超细晶纯钛阳极氧化表面的形貌、膜-基结合力、抗腐蚀性能和微动摩擦磨损性能.结果表明:与常规纯钛氧化表面相比,超细晶纯钛氧化表面具有更多纳米尺度孔穴,更高的膜-基结合力(后者是前者的2倍),更高的抗模拟体液电化学腐蚀性能(后者的腐蚀速率是前者的2/5),更低的摩擦系数(0.12∶0.34)、更高的耐磨性.分析认为,以上性能变化是纯钛组织超细化提高其晶体缺陷(内能)所致.
关键词:
超细晶纯钛
,
阳极氧化
,
膜-基结合力
,
抗腐蚀性能
,
微动摩擦磨损性能
刘军
,
陈志刚
,
陈春
,
毕凯
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2006.12.003
分别将W18Cr4V高速钢和YG8硬质合金作为衬底材料,用直流磁控溅射和射频磁控溅射法制备了CNx薄膜,用划痕法测定了薄膜和衬底材料之间的膜基结合力.结果表明:YG8硬质合金作为衬底材料时薄膜的膜基结合力较高;对YG8硬质合金衬底材料进行适当的腐蚀处理或溅射一层TiN中间层,薄膜的膜基结合力明显提高;对于两种衬底材料,射频磁控溅射法制备的薄膜膜基结合力明显高于直流磁控溅射法制备的薄膜.
关键词:
磁控溅射
,
衬底
,
CNx薄膜
,
结合力
徐诚
,
沈理达
,
田宗军
,
刘志东
,
马云
,
朱军
机械工程材料
doi:10.11973/jxgccl201507007
在硅基底上利用喷射电沉积法制备铜/钴多层膜和单层纯铜膜,研究了多层膜的形貌、多层膜和单层铜膜与基体的结合力以及划痕方向对膜基结合力的影响.结果表明:对硅基底进行抛光处理可使膜基结合力减小,粗化处理可在一定程度上提高膜基结合力;多层膜与基底的结合力大于单层铜膜与基底的结合力;当划痕方向平行于工件运动方向时,膜层中的内应力变化不均匀,很容易造成应力累积而使得临界载荷减小,从而使得膜基结合力明显小于划痕方向垂直于工件运动方向时的膜基结合力.
关键词:
喷射电沉积
,
硅
,
铜/钴多层膜
,
结合力
邱万奇
,
潘建伟
,
刘仲武
,
余红雅
,
钟喜春
,
曾德长
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00205
在铜基体上沉积铬-金刚石复合过渡层, 用热丝CVD系统在复合过渡层上沉积连续的金刚石涂层. 用扫描电镜(SEM)、X射线(XRD)、拉曼光谱及压痕试验对所沉积的镶嵌结构界面金刚石膜的相结构及膜/基结合性能进行了研究. 结果表明, 非晶态的电镀Cr在CVD过程中转变成Cr3C2, 由于金刚石颗粒与Cr3C2的相互咬合作用, 金刚石膜/基结合力高; 在294 N载荷压痕试验时, 压痕外围不产生大块涂层崩落和径向裂纹, 只形成环状裂纹.
关键词:
金刚石膜
,
inlay structure
,
composite plating
,
indentation
,
adhesive strength
邱万奇
,
潘建伟
,
刘仲武
,
余红雅
,
钟喜春
,
曾德长
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00205
在铜基体上沉积铬-金刚石复合过渡层,用热丝CVD系统在复合过渡层上沉积连续的金刚石涂层.用扫描电镜(SEM)、X射线(XRD)、拉曼光谱及压痕试验对所沉积的镶嵌结构界面金刚石膜的相结构及膜/基结合性能进行了研究.结果表明,非晶态的电镀Cr在CVD过程中转变成Cr3C2,由于金刚石颗粒与Cr3C2的相互咬合作用,金刚石膜/基结合力高;在294 N载荷压痕试验时,压痕外围不产生大块涂层崩落和径向裂纹,只形成环状裂纹.
关键词:
金刚石膜
,
镶嵌
,
复合镀
,
压痕
,
结合力
石志锋
,
黄楠
,
孙鸿
,
朱生发
功能材料
采用双弧磁过滤真空弧源,在钴铬合金基体上成功地沉积了Ti/DLC多层膜,其钛过渡层利用不同的负偏压来制备.利用纳米划痕法来评价薄膜的膜基结合力,类金刚石薄膜的摩擦性能在销盘式摩擦磨损试验机进行测试.划痕法的结果均表明,增加钛的过镀层后薄膜的结合状况得到明显的改善,纳米划痕法测试膜基结合力表明其临界载荷可达到740mN,摩擦磨损实验可以看出镀膜后的样品的摩擦系数均在0.1左右,DLC薄膜可极大地改善钴铬合金的摩擦学性能.
关键词:
过渡层
,
膜基结合力
,
摩擦学性能
,
临界载荷
钟涛生
,
蒋百灵
,
易茂中
材料保护
以ADC12铝合金为基材,采用MAO 240/750微弧氧化设备制备了黑色微弧氧化陶瓷膜,采用胶带粘扯法和金相残余应力撕裂法检测陶瓷膜结合力,研究了温度、占空比和电压等能量参数对陶瓷膜结合力的影响.结果表明,温度越高,陶瓷膜与基体之间的结合情况越好,温度对结合力的影响是通过电介质的电离程度来实现的;结合力随着占空比和电压的升高而增强,电压过高,将产生烧蚀现象;陶瓷膜的结合力与致密层的厚度有关,致密层厚度越大,附着情况越好;满足工程应用的能量参数值分别为温度45℃、占空比18%和电压600 V左右.
关键词:
能量参数
,
微弧氧化
,
结合力
,
温度
,
电压
,
占空比
邵红红
,
王季
,
王晓静
,
于春杭
,
顾冬青
功能材料
采用射频磁控溅射法在40Cr基体上制备了非晶态Al2O3薄膜,并研究了工艺参数(溅射功率,工作气压,溅射时间)、预处理工艺以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用射频溅射法,在功率为250W、工作气压为5.0Pa、时间为3h条件下制备的薄膜结合力最好.基体经过腐蚀预处理和加入镍磷中间层均能改善膜基结合力,后者效果更显著.
关键词:
射频磁控溅射
,
Al2O3薄膜
,
非晶态
,
结合力
,
Ni-P中间层
