南涛
,
仝晓刚
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2014.12.006
针对电子设备表面涂层特征,从液态喷涂保护膜和固态保护膜两种材料在电子设备表面保护工艺入手,通过工艺实验,取得了关键参数以及保护过程的要点及适应的产品类型,提出了两种保护膜的保护工艺及保护工装.结果表明,液态喷涂保护膜膜厚和均匀性对膜的质量影响最大;固态保护膜膜厚、可剥离性及制膜方法对保护效果影响最大.
关键词:
电子设备
,
液态喷涂保护膜
,
喷涂工艺
,
固态保护膜
,
表面防护
宇航材料工艺
介绍了镁合金表面形成保护膜的化学转化、阳极氧化、微弧氧化、电镀和化学镀这些表面处理方法的研究情况.通过对这些方法中化学处理溶液的性质、工艺特点以及膜层性能进行分析,指出了各方法存在的问题以及今后研究的方向.
关键词:
化学转化
,
阳极氧化
,
微弧氧化
刘宏华
,
尹云飞
,
王平
材料导报
概述了应用于硬盘磁头表面的类金刚石薄膜(DLC)保护膜的性能要求、微观结构模型、生长机理及制备方法,总结了影响薄膜性能的因素和薄膜的表征方法,分析了当前影响类金刚石薄膜在磁头行业中应用的因素及可能的解决办法,并展望了应用于磁头表面等半导体行业的高性能DLC薄膜的制备前景.
关键词:
磁头
,
类金刚石膜
,
结构模型
,
生长机理
,
表征方法
王晓虹
,
任耀剑
,
冯培忠
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2008.01.018
采用SEM和EDS技术研究了国外某MoSi2发热元件表面保护膜的成分和微观组织.结果表明:在MoSi2发热元件外表面存在一层光滑致密的厚度超过10μm的玻璃保护膜,膜和基体之间界面清晰,结合紧密,该膜是一种以SiO2为主,含有少量铝、钠、镁和钙氧化物的复合成分的玻璃保护膜;在最外层玻璃保护膜和基体之间存在1~2μm厚的Mo5Si3过渡层;复合成分玻璃保护膜和Mo5Si3过渡层的出现有利于调整保护膜和基体之间热膨胀系数的差异,提高保护膜和基体结合的稳定性,有利于发热元件的高温使用.
关键词:
二硅化钼
,
发热元件
,
保护膜
,
组织
杨勇
,
吴卫
,
郑小秋
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.09.003
稀土金属Gd在磁制冷机中容易受热交换流体水的腐蚀而性能下降.利用磁控溅射技术,在磁制冷材料Gd表面溅射一层保护材料(Ti、1Cr18Ni9Ti),研究了其在蒸馏水和去离子水中的腐蚀情况.结果表明,溅射Ti保护膜对Gd起了明显的保护作用,而溅射1Cr18Ni9Ti膜几乎不起保护作用,纯Gd及溅射保护膜后的Gd在去离子水中比蒸馏水中更易腐蚀.
关键词:
磁制冷材料
,
Gd
,
磁控溅射
,
水
,
腐蚀行为
刘晓龙
,
熊守美
稀有金属材料与工程
研究了以HFC-134a气体为基的混合气体的保护效果,形成的保护膜形貌,结构及成分;分析了各种元素在保护膜中所起的作用.实验研究表明:保护膜由MgO和MgF2混合生成,厚度一般在0.1μm~0.6 μm,且保护膜在厚度方向上成分均匀;在保护膜和基体之间存在大量MgF2的聚集颗粒,这些颗粒在表面呈凹陷状.
关键词:
HFC-134a
,
气体
,
保护
,
保护膜
,
镁